形狀分析雷射顯微鏡
VK-X 系列
推薦替代產品: 控制器 - VK-X3000
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控制器 VK-X1000
產品規格
型號 | VK-X1000 | |||
類型 | 控制器 | |||
綜合倍率 | 至 28,800 倍*1 | |||
視野(最小視野範圍) | 11 µm 至 7,398 µm | |||
畫格速率(雷射量測速度) | 4 至 125 Hz、7,900 Hz*2 | |||
量測原理 | 光學系統 | 針孔共焦光學系統、對焦選擇 | ||
受光元件 | 16 位元感測光電倍增管、超高精細彩色CMOS | |||
掃描方式 | 自動上下限設定功能、高速光量最佳化功能 (AAGII) 、反射光量不足插補功能 (雙掃描) | |||
高度量測 | 顯示解析度 | 0.5 nm (VK-X1100)、5 nm (VK-X1050) | ||
線性尺規 | ||||
動態量程 | 16 位元 | |||
重複精度σ | 雷射共軛焦 | 20 x : 40 nm、50 x : 12 nm (VK-X1100) | ||
對焦選擇 | 5 x : 500 nm、10 x : 100 nm、20 x : 50 nm、50 x : 20 nm (VK-X1100) | |||
獲取高度資料的範圍 | 70 萬步級 | |||
準確性 | 0.2 + L/100 µm 以下 (L = 量測長度 µm)*3 | |||
寬度量測 | 顯示解析度 | 1 nm (VK-X1100)、10 nm (VK-X1050) | ||
重複精度 3σ | 雷射共軛焦 | 20 x : 100 nm、50 x : 40 nm (VK-X1100) | ||
對焦選擇 | 5 x : 400 nm、10 x : 400 nm、20 x : 120 nm、50 x : 50 nm (VK-X1100) | |||
準確性 | 量測值±2 % 以內*3 | |||
XY 載物台構造 | 手動 運轉範圍 | 70 mm x 70 mm | ||
電動 運轉範圍 | 100 mm x 100 mm | |||
觀察 | 觀察影像 | 超高精細彩色CMOS 影像、16 位元雷射彩色共焦影像、共焦點 + ND 濾波器光學系統、C - 雷射微分干涉影像 | ||
照明 | 環狀照明、同軸落射照明 | |||
量測用雷射光源 | 波長 | 紫色半導體雷射 404 nm (VK-X1100) | ||
最大輸出 | 1 mW | |||
分類 | 第 2 類雷射製品 (IEC60825-1) | |||
電源 | 電源電壓 | 100 至 240 VAC、50/60 Hz | ||
消耗電流 | 150 VA | |||
重量 | 約 3.0 kg | |||
*1 23 吋顯示器畫面上倍率 (全螢幕顯示時)。 |