形狀分析雷射顯微鏡

VK-X 系列

本型號已停產。
各型號是否符合認證標準,以出貨當時的認證情況為準。

推薦替代產品: 控制器 - VK-X3000

控制器 VK-X1000

VK-X1000 - 控制器

*為協助用戶了解產品用途及安裝方式,產品圖片中可能包含加購配件。

產品規格(PDF)

  • CE Marking
  • CSA

產品規格

型號

VK-X1000

類型

控制器

綜合倍率

至 28,800 倍*1

視野(最小視野範圍)

11 µm 至 7,398 µm

畫格速率(雷射量測速度)

4 至 125 Hz、7,900 Hz*2

量測原理

光學系統

針孔共焦光學系統、對焦選擇

受光元件

16 位元感測光電倍增管、超高精細彩色CMOS

掃描方式
(一般量測時及圖像連結時)

自動上下限設定功能、高速光量最佳化功能 (AAGII) 、反射光量不足插補功能 (雙掃描)

高度量測

顯示解析度

0.5 nm (VK-X1100)、5 nm (VK-X1050)

線性尺規

動態量程
(根據工件的受光量的適應幅度)

16 位元

重複精度σ

雷射共軛焦

20 x : 40 nm、50 x : 12 nm (VK-X1100)
20 x : 40 nm、50 x : 20 nm (VK-X1050)

對焦選擇

5 x : 500 nm、10 x : 100 nm、20 x : 50 nm、50 x : 20 nm (VK-X1100)
5 x : 500 nm、10 x : 100 nm、20 x : 50 nm、50 x : 30 nm (VK-X1050)

獲取高度資料的範圍

70 萬步級

準確性

0.2 + L/100 µm 以下 (L = 量測長度 µm)*3

寬度量測

顯示解析度

1 nm (VK-X1100)、10 nm (VK-X1050)

重複精度 3σ

雷射共軛焦

20 x : 100 nm、50 x : 40 nm (VK-X1100)
20 x : 100 nm、50 x : 50 nm (VK-X1050)

對焦選擇

5 x : 400 nm、10 x : 400 nm、20 x : 120 nm、50 x : 50 nm (VK-X1100)
5 x : 400 nm、10 x : 400 nm、20 x : 120 nm、50 x : 65 nm (VK-X1050)

準確性

量測值±2 % 以內*3

XY 載物台構造

手動 運轉範圍

70 mm x 70 mm

電動 運轉範圍

100 mm x 100 mm

觀察

觀察影像

超高精細彩色CMOS 影像、16 位元雷射彩色共焦影像、共焦點 + ND 濾波器光學系統、C - 雷射微分干涉影像

照明

環狀照明、同軸落射照明

量測用雷射光源

波長

紫色半導體雷射 404 nm (VK-X1100)
紅色半導體雷射 661 nm (VK-X1050)

最大輸出

1 mW

分類

第 2 類雷射製品 (IEC60825-1)

電源

電源電壓

100 至 240 VAC、50/60 Hz

消耗電流

150 VA

重量

約 3.0 kg

*1 23 吋顯示器畫面上倍率 (全螢幕顯示時)。
*2 在量測模式/量測品質/鏡頭倍率的組合下為最快的情形。線性掃描的量測間距為 0.1 m 以內時。
*3 以 20 倍以上的鏡頭量測標準試料 (基準刻度) 時。

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