形狀分析 雷射共軛焦 兼 白光干涉顯微鏡
VK-X3000 系列
量測頭 VK-X3100
產品規格
型號 | VK-X3100 | |||
類型 | 量測頭 | |||
綜合倍率 | 42 至 28800 倍*1 | |||
視野範圍 | 11 至 7398 μm | |||
量測原理 | 雷射共軛焦、Focus Variation、白光干涉、分光干涉 | |||
雷射光源波長 | 半導體雷射 404 nm | |||
最快雷射量測速度 | 面:125 Hz、線:7900 Hz*2 | |||
雷射最大輸出 | 1.0 mW | |||
雷射分類 | 第 2 類雷射製品(IEC60825-1) | |||
雷射受光元件 | 16 位元感測光電倍增管 | |||
白色光源 | 白色 LED | |||
白光受光元件 | 超高精細彩色 CMOS | |||
雷射共軛焦 | 高度顯示解析度 | 0.1 nm | ||
高度重複精度 σ | 10×:100 nm、20×:40 nm、50×:12 nm | |||
高度準確性 | 0.2+L/100 μm 以下*3 | |||
寬度顯示解析度 | 0.1 nm | |||
寬度重複精度 3σ | 10×:200 nm、20×:100 nm、50×:40 nm | |||
寬度準確性 | 量測值 ±2% 以內*3 | |||
Focus Variation | 高度顯示解析度 | 0.1 nm | ||
高度重複精度 σ | 5×:500 nm、10×:100 nm、 | |||
高度準確性 | 0.2+L/100 μm 以下*3 | |||
寬度顯示解析度 | 0.1 nm | |||
寬度重複精度 3σ | 5×:400 nm、10×:400 nm、20×:120 nm、 | |||
寬度準確性 | 量測值 ±2% 以內*3 | |||
白光干涉 | 高度顯示解析度 | 0.01 nm | ||
寬度顯示解析度 | 0.1 nm | |||
Surface Topography Repeatability | 0.08 nm*4 | |||
Repeatability of RMS | 0.008 nm*4 | |||
分光干涉膜厚量測 | 重複精度 σ | 0.1 nm*4 | ||
準確性 | ±0.6%*4 | |||
光學觀察 | 畫素數 | 560 萬 | ||
旋轉器 | 6 孔電動旋轉器 | |||
環狀照明適用鏡頭 | 2.5 倍、5 倍、10 倍 | |||
光學變焦 | 1 至 8 倍 | |||
XY 載物台構造 | 手動運轉範圍 | 70 × 70 mm | ||
電動運轉範圍 | 100 × 100 mm | |||
電源 | 電源電壓 | 100 至 240 VAC、50/60 Hz | ||
功率消耗 | 150 VA | |||
環境抗耐性 | 環境溫度 | +15 至 28°C | ||
相對濕度 | 20 至 80% RH(無凝結) | |||
重量 | 約 13 kg | |||
*1 23 吋顯示器畫面上的全螢幕顯示時的倍率 |